最新研究
从底层科普、商业模式、产业链、供需格局到 A 股映射。
电子束光刻:纳米世界的手写笔与 EUV 掩模的隐形推手
定义:电子束光刻(EBL)是用聚焦电子束在光刻胶上直接写出纳米图形的无掩模光刻技术,分辨率可达个位数纳米,但吞吐量极低,产业位置集中在 EUV 掩模版写入和量子器件、光子芯片等科研直写场景。
CMP 抛光液:把晶圆磨平的纳米耗材,国产替代跑得最快的半导体材料
定义:CMP 抛光液是化学机械抛光(CMP)工艺中的核心耗材,由纳米研磨颗粒、化学添加剂和超纯水复配而成,通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用实现晶圆表面的全局平坦化,是晶圆制造、大硅片加工和先进封装不可缺少的关键材料。
风电:120GW 抢装大年之后,从价格内卷走向盈利修复
定义:风电是利用风电机组把风的动能转化为电能的可再生能源发电方式,产业链覆盖上游叶片、齿轮箱、轴承、铸件等零部件,中游整机制造,下游风电场开发运营;中国的新增装机与制造产能均居全球第一,是新能源板块的主力赛道之一。